puce chinoise percées R & D: premier développement réussi des équipements de lithographie super-résolution du monde

Big Digest Les données produites

Source: La Chine en ligne militaire

puce chinois ont enfin quelques bonnes nouvelles!

29 novembre Institut Académie chinoise des sciences de l'optique a annoncé qu'ils ont entrepris un important projet de développement de matériel de recherche scientifique nationale « développement d'équipements de lithographie de super-résolution » par l'acceptation.

C'est la première source de lumière ultraviolette pour obtenir une résolution de 22 nm lithographie du monde.

Selon les rapports, l'Académie chinoise des Opto-Electronics super-résolution équipe de projet d'équipement de lithographie après près de sept années de recherches minutieuses, brisant un certain nombre de technologies clés, le développement de la résolution complète des premières années internationales les plus élevées de super-résolution équipement de lithographie ultraviolet, qui utilise la source de lumière de longueur d'onde 365 nm , la résolution la plus élevée de la largeur de ligne d'une seule exposition de 22 nm, après la liaison des techniques d'exposition multiples peut être utilisé pour fabriquer la puce 10 échelle du nanomètre!

CAS Technical Institute of Physics Academy groupe Xu Zuyan autres spécialistes convenu que l'acceptation, la lithographie à une longueur d'onde de la source 365 nm, la largeur de ligne maximale d'une exposition unique à 22 résolution nanométrique. projet percée dans la résolution principe limitée par la diffraction, la mise en place d'une haute résolution, les grands domaines de la recherche de matériel nano-lithographie et le développement de nouvelles routes, en contournant les obstacles aux droits de propriété intellectuelle liés à l'étranger.

Il est entendu que la machine de lithographie dispositifs liés à la fabrication ont été dans le huitième Institut de recherche, Centre de Terahertz Science et technologie, Université de science et de la technologie, l'hôpital ouest de la Chine, l'Université du Sichuan, Laboratoire d'État clé de l'information des matériaux fonctionnels Microsystems Académie chinoise des sciences China Aerospace Science et Technology Corporation, etc. tâche principale de la recherche d'un certain nombre d'instituts de recherche et les universités pour obtenir des applications.

Pourquoi donc la lithographie importante

Il ne fait aucun doute que c'est une percée technologique de classe mondiale, parce que le processus de production est devenue plus raffinée, le sens, le rendement de la puce part de prendre des décisions puce. Fab rendement dépend du niveau de la puce dans l'ensemble, mais le noyau du dispositif dépend entièrement de la précision d'usinage, à savoir, « lithographie. »

Avant, notre pays dans ce domaine est relativement en retard. Il utilise la technologie d'impression photo-like, la conception du circuit un énorme micro-impression à la petite puce, plus la lithographie de précision, la taille de la puce peut être plus petite, plus la performance est peut-être. Cependant, en raison de l'effet de diffraction des ondes lumineuses, lithographie de précision finira par faire face à une limite.

processus fabricant de machines Lithography dans la société Helan Bismarck (ASML) est le plus puissant, mais la production est peu élevé, à la fois TSMC, Samsung ou Intel, qui devraient acheter des machines de lithographie ASML, qui sera en mesure le premier à avoir procédé 7 nm.

ASML est le seul fabricant de machines de lithographie haut de gamme, chaque prix au moins 100 millions $ en 2017 produit seulement 12 unités, capables de produire 24 unités est attendue en 2018, ceux-ci ont été volés sur Intel, Samsung, TSMC, 2019 il a prédit 40 unités, dont l'un est pour notre SMIC.

La raison, la lithographie ne peut pas être importée, car Intel a une participation de 15% dans ASML TSMC 5%, 3%, Samsung, parfois, l'argent est pas tout. En second lieu, les impérialistes américains avaient tout un « accord Wassenaar », ne peut pas vendre la technologie sensible, la Chine, la Corée du Nord, l'Iran, la Libye, les deux sont des pays restreints.

Avant 2009, Shanghai Microelectronics machine de lithographie 90nm a développé avec succès, et plus tard la Chine a commencé la recherche lithographie 65nm, 2015, les États-Unis a permis à plus que les ventes d'équipement de 65nm en Chine.

Source: Big Digest de données

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