La Chine a fait de nouvelles percées dans la fabrication de puces!
Après près de sept années de recherche minutieuse, projet « développement d'équipements de lithographie super-résolution » par l'acceptation. Cela signifie que la Chine a maintenant « première résolution la plus élevée station UV du monde (qui est, 22 nm à 365 nm) équipements de lithographie de super-résolution. »
En d'autres termes, les scientifiques chinois ont développé avec succès une lithographie très puissante.
machines de lithographie, ce qui est le noyau de l'équipement de fabrication de la puce. La Chine a été contrôlée par d'autres dans l'industrie des puces, en particulier dans le domaine des machines de lithographie, se heurtent souvent à l'étranger suffocation, interdit et diverses contraintes.
Pour cette percée, les vues du Groupe d'acceptation sont les suivants:
La lithographie à une longueur d'onde de la source 365 nm, la largeur de ligne maximale d'une exposition unique à 22 résolution nanométrique. projet percée dans la résolution principe limitée par la diffraction, la mise en place d'une haute résolution, les grands domaines de la recherche de matériel nano-lithographie et le développement de nouvelles routes, en contournant les barrières de propriété intellectuelle liés à l'étranger.
Les nouvelles est sorti, beaucoup de gens ont fait l'éloge, mais la plupart sont inconnus du sommeil Li, bien sûr, a dit à la vantardise. Derrière ces nouvelles, à la fin ce que cela signifie?
Cette percée met en évidence sont nombreux, les plus remarquables sont plusieurs points, qubits brièvement résumées comme suit:
Source: mince ligne brut Daoke
La machine de lithographie domestique, en utilisant 365 nm de longueur d'onde Une source de lumière dans le champ de l'ultraviolet proche.
En règle générale, afin de poursuivre une solution plus petit fabricant de la machine lithographie nanométrique est d'obtenir la lumière de longueur d'onde plus courte. ASML est cette ligne de pensée.
Maintenant le plus largement utilisé des sources étrangères pour la machine de lithographie 193 nm de longueur d'onde laser ultraviolet profond , La résolution lithographique est à 38 nanomètres, soit environ 0,27 fois la longueur d'onde de l'exposition.
Cette lithographie maison, peut faire 22 nm. En outre, « en liaison avec la double technique d'exposition, il peut être utilisé pour la fabrication de la prochaine puce de 10 nanomètres. »
Autrement dit, le CAS photoélectrique mis au point par cette lithographie, une longueur d'onde plus longue (ultraviolet proche), coût inférieur (lampe au mercure) de source lumineuse, pour obtenir une lithographie de haute résolution (0,06 fois la longueur d'onde d'exposition).
Adjoint concepteur en chef du projet, chercheur au CAS Institut d'Optique Hu Song Dans une interview avec « la Chine Nouvelles de la Science », a fait un exemple: « Ceci est l'équivalent d'entre nous avec un couteau très épais, se tailler une ligne très mince. » Cette il est appelé limite de diffraction résolution Break .
Par conséquent, il est également connu comme la plus haute résolution ultraviolet Taiwan premier équipement de lithographie super-résolution du monde.
Coût: appareils haut de gamme, « prix du chou »
Plus la longueur d'onde, plus le coût.
Pour une résolution plus élevée, raccourci pour améliorer la lithographie en utilisant des ondes lumineuses, ce qui augmente l'ouverture numérique du système d'imagerie comme la voie de la technologie classique, mais le problème est non seulement technique extrêmement difficile, Les coûts d'équipement trop élevé .
ASML dernier cinquième génération lithographie utilisation plus courte longueur d'onde 13,5 ultraviolet extrême du nanomètre (l'EUV), la production de copeaux pour atteindre 14 nm, 10 nm et 7 nm processus.
Une telle machine de lithographie au prix de plus de 100 millions $.
L'Académie des Sciences de Chine photoélectrique par cet équipement, l'utilisation de longueur d'onde plus longue, la lithographie ultraviolet plus commune signifie un usage domestique source lumineuse à faible coût Pour obtenir une lithographie haute résolution.
Certains évaluation des net-citoyens, a déclaré machines de lithographie fabriqués en Chine pourraient être surmontés la Chine et d'autres équipements de haute technologie, comme, l'avenir est devenu le prix du chou.
Percée: briser l'embargo, dépassement de tour
Cette machine de lithographie apparaît, il y a une autre signification importante.
Nous nous référons ici à la Central Broadcasting rapporté:
Super-résolution de l'équipement de lithographie la bonne mise en uvre du projet, brisant le monopole étranger dans le domaine des équipements de lithographie haut de gamme, offrant une nouvelle façon de résoudre le traitement des nano-optique, mais aussi pour la nouvelle génération de technologies de l'information, de nouveaux matériaux, bio-médical et d'autres domaines technologiques de pointe de stratégique la défense et la sécurité de base et frontière fournit le soutien technique de base. Adjoint concepteur en chef du projet, chercheur à l'Institut CAS de présentation optique Hu Song: « Tout d'abord est d'abord exprimé dans notre niveau actuel et la communauté internationale a eu lieu au même niveau de l'indice de résolution appartiennent en fait à l'embargo étranger. un indicateur, nous sommes sortis de ce projet Une grande aide pour briser l'embargo . « » Le deuxième cas embargo étranger nous ne devons pas avoir peur, parce que la technologie que nous allons à nouveau, nous pensons que nous pouvons avoir l'assurance. Dans le futur développement de la puce, l'intégration mécanique et électrique de la puce optique de nouvelle génération ou nous disons puce généralisée (zones développées), il est plus susceptible de se tourner vers de marche Dépasser devant. "
limite
Bien sûr, nous ne pouvons pas être optimistes.
L'émergence de cet équipement, la fabrication de puces ne signifie pas que notre pays saute immédiatement et limites. D'une part, la fabrication de puces est une énorme écologie industrielle, d'autre part la machine de lithographie photo Académie des Sciences de Chine a encore quelques limites.
Selon les rapports, ce matériel a été préparé une série de dispositif de nano-fonctionnel, comprenant un grand diamètre miroir à film mince, nanofil supraconducteur détecteur de photon unique, le dispositif de rayonnement Cerenkov, la puce de capteur biochimique, surface ultra du dispositif d'imagerie et similaires, pour vérifier la le dispositif est équipé d'une capacité de traitement nano-fonctionnel, a atteint un niveau pratique.
En d'autres termes, la clé est le dispositif dans certains domaines de l'optique.
Mais il y a aussi savent presque net-citoyens ont déclaré que « les capacités techniques actuelles, ne peuvent faire des lignes et parsemer cycle de matrice, ne peut pas créer des besoins complexes graphiques IC. »
Cette technologie accusée de « à court terme n'est pas utilisé dans le domaine de fabrication IC, ne peut pas secouer ASML est rien dans la fabrication IC ...... mais formé une certaine menace pour le long terme est encore possible d'obtenir des progrès plus importants. »
machine de lithographie de fabrication chinoise derrière le statu quo
À l'heure actuelle, les fabricants de machines de lithographie ont international ASML Pays-Bas, Nikon Japon, Canon. Parmi eux, le nombre de ASML est la technologie la plus avancée.
Il y a aussi des machines de lithographie de l'entreprise, l'équipement micro-électronique tels que Shanghai, mais loin derrière le niveau technique de ASML.
Équipement de Shanghai Microelectronics produit actuellement que la puce de traitement lithographie technologie 90 nanomètres, c'est le plus haut niveau de la lithographie domestique. production et ASML a 7 nm processus de lithographie EUV, il y a l'écart de la technologie d'au moins dix ans.
Lithography est le noyau de l'équipement de fabrication de puce, utilisée pour des faiblesses techniques de la Chine. Le niveau des machines de lithographie restreint fortement le développement de la technologie de la puce de la Chine. Nous avons été « étranglent la main. »
Chine fabricant de puces SMIC, le fleuve Yangtsé et d'autres fournisseurs de stockage doivent acheter à la machine de la hausse des prix de ASML.
En mai de cette année, le Nikkei a rapporté commentaire commandes Asie, SMIC avec une machine de lithographie EUV 120 millions $ au fabricant équipements semi-conducteurs ASML international, devrait être livré au début de 2019.
De plus, le fleuve Yangtsé cette année pour acheter une machine de lithographie par immersion mémoire de ASML, prix jusqu'à 72 millions $.
Les soi-disant lithographie machine la fin est quoi?
Principe Lithography
Lithography, une de l'âme équipement de fabrication de la puce. La chanson de l'Académie chinoise des sciences Hu, Il Xiaodong dans la « Voix de l'Académie chinoise des sciences, » un article publié dans cette présentation de son importance:
ère post-industrielle, y compris l'industrie actuelle 3.0 Industrie 4.0, sont à puce, la fabrication de machines de lithographie à puce comme un outil, outil à main est équivalent à l'ère industrielle, l'ère pré-industrielle.Mais plus spécial est que la lumière de la machine de lithographie pour « outil. » Plus précisément, le processus à peu près comme ceci:
Dans la surface de la plaquette recouverte d'un résist sensible à la lumière fortement, puis la lumière est irradiée sur la surface de la tranche à travers un masque, la résine photosensible est irradié avec de la lumière à réagir les uns avec les autres. Après lavage avec le solvant particulier à irradier / non photoresist irradié, il est réalisé un schéma de circuit du transfert du masque sur la tranche. Citation de: « une lithographie de lecture papier », les titres de la CRE
Ceci est juste un processus simplifié, dans des circonstances normales, nous voulons créer une puce avec mécanisme de lithographie, la nécessité pour des centaines de milliers de canaux et processus de recouvrement sur la structure extrêmement fine, des centaines de besoin de dispositifs pour compléter.
Le succès du développement de l'Académie chinoise des sciences lithographie machines, la capacité d'atteindre 22 nm. Quelle est l'idée? Académie chinoise des sciences article mentionne une comparaison:
diamètre des cheveux d'environ 80 microns, le diamètre des cheveux 22 nm 1/3600. En d'autres termes, la machine de lithographie capable de traiter une variété de structures complexes sur la surface des cheveux.Cette lithographie, qui a développé le?
7 Exploration de l'Académie chinoise des sciences photo-électrique
Cette machine de lithographie derrière les institutions de recherche Académie chinoise des sciences est le photovoltaïque.
Prenez les devants dans la recherche et le développement pour accomplir cette tâche, l'Académie chinoise des sciences Institut d'optique et de l'électronique scientifique en chef de super-résolution projet d'équipement de lithographie, professeur d'université de l'Académie chinoise des sciences et de doctorat Luoxian Gang Chercheur.
Luoxian Gang statut académique dans le domaine de opto-électronique de sa longue liste peut être vu dans le titre:
Laboratoire d'État clé de directeur optique de la technologie micro-usinage du scientifique en chef du Programme national 973, a remporté le premier prix dans le rapport annuel 2016 Etat technologique Invention 2017, l'Académie chinoise de cooptées candidat efficace en génie, le Fonds national des sciences pour le gagnant distingué Young, chef du département Organisation centrale millions programme de subventions scientifiques de premier plan en 2009, « de nouveaux talents du siècle projet » candidat national en 2004, l'Académie chinoise des sciences « Cent talents du programme », la société optique chinoise, la Société américaine d'optique, la Société internationale pour l'ingénierie optique, optoélectronique internationaux et laser quatre membres de la Société de la société Engineering (Fellow).
En 1995, l'Institut Académie chinoise des sciences de l'optique Maître depuis le début, Luoxian Gang a été engagé dans le domaine de plus opto-électronique de 20 ans, après avoir terminé la maîtrise et au doctorat Académie chinoise des sciences Institut d'optique, il est allé à l'Institut de physique et chimique post-doctoral et chercheur du Japon.
En 2004, Luoxian Gang est revenu à l'Institut Académie chinoise des sciences de l'optique et sa lecture, a commencé en tant que chercheur. 20 ans de façon académique photovoltaïque, non seulement il a publié plus de 100 articles dans la SCI, ont également apporté des dizaines de maîtrise de doctorat exceptionnelle.
division Projet vice-président Hu Song Aussi chercheur à l'Institut CAS de Photonics, Académie chinoise des sciences de l'Université, Ph.D., dans l'exposition de projection de la technologie micro-nanofabrication optique, la technologie de lithographie de microfabrication a une richesse d'expérience, profiter des subventions gouvernementales, a présidé plusieurs national, ministériel et provincial projets de recherche, publiés plus de brevets dix.
Académie des Sciences de Chine a terminé le plan photoélectrique a sept ans.
Selon Economic Daily a rapporté que, en 2012, l'Académie chinoise des sciences par le photo-électrique Borne équipements de lithographie de super-résolution à ce grands projets de recherche nationaux et les tâches de développement de l'équipement, n'a pas d'expérience étrangère mûre pour tirer parti de.
7 ans, l'équipe du projet a franchi la grande uniformité de l'éclairage, la lentille de lithographie de super-résolution, la résolution nanométrique et la mesure du jeu et mise au point automatique ultra-précision, le contrôle de la scène de la pièce à plusieurs degrés de liberté et d'autres technologies clés, produisent la plus haute résolution première étape International équipement de lithographie UV super-résolution développée, qui utilise la source de lumière de longueur d'onde 365 nm, une seule largeur de ligne d'exposition de la puissance de résolution pouvant atteindre 22 nm (longueur d'onde d'exposition d'environ 1/17).
Sur cette base, l'équipe du projet combiné rapport a également produit des équipements de lithographie de super-résolution aspect a développé de gravure, et d'autres supportant plusieurs processus graphiques pour obtenir un traitement de motifs de taille caractéristique 10 nm.
En outre, le projet a publié 68 articles, 92 brevets d'invention, dont 47 l'autorisation de demander des brevets internationaux huit, quatre autorisés, et formé un contingent de la technologie de lithographie de super-résolution et de l'équipement équipe R & D.
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